奧林巴斯顯微鏡貼合需求的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
奧林巴斯OLS5100采用冷軋鋼板外殼，經(jīng)過(guò)防靜電噴涂處理，既能抵抗實(shí)驗(yàn)室常見(jiàn)化學(xué)試劑的腐蝕，又能減少靜電對(duì)電子元件的影響。設(shè)備集成激光共聚焦與光學(xué)成像雙模塊，可自由切換2D成像與3D掃描模式，側(cè)面預(yù)留的擴(kuò)展接口還支持拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等多技術(shù)聯(lián)用，后期升級(jí)更靈活。
電動(dòng)樣品臺(tái)支持 X/Y/Z 軸自動(dòng)對(duì)焦與掃描，定位精度達(dá) 0.1μm，能實(shí)現(xiàn)樣品的全自動(dòng)三維掃描。針對(duì)不同大小的樣品，還可選擇 100×100mm 手動(dòng)或電動(dòng)樣品臺(tái)，最大甚至能適配 300×300mm 的大面積樣品檢測(cè)需求。
該設(shè)備的 Lext 專(zhuān)用物鏡能減少外周區(qū)域的測(cè)量偏差，解決了傳統(tǒng) lenses 在邊緣區(qū)域難以準(zhǔn)確測(cè)量的問(wèn)題。在高度測(cè)量方面，顯示分辨率達(dá) 0.5nm，動(dòng)態(tài)范圍為 16 bits，不同物鏡下的重復(fù)性能保持較好水平，20× 物鏡下重復(fù)精度可達(dá) 0.03μm，100× 物鏡下則能達(dá)到 0.012μm。
寬度測(cè)量的顯示分辨率為 1nm，20× 物鏡下重復(fù)精度 0.05μm，測(cè)量 accuracy 控制在測(cè)量值的 ±1.5% 范圍內(nèi)。即使進(jìn)行圖像拼接，20× 及以上物鏡的拼接 accuracy 也能達(dá)到 1.0 + l/100 μm（l 為拼接長(zhǎng)度），滿(mǎn)足大面積樣品的精準(zhǔn)分析需求。
不同型號(hào)各有側(cè)重：基礎(chǔ)款 OLS5100-SMF 適合常規(guī)材料分析，配備 100×100mm 電動(dòng)樣品臺(tái)，最大樣品高度 40mm；針對(duì)特殊需求的 OLS5100-LAF，樣品高度上限提升至 210mm，機(jī)身重量約 50kg，結(jié)構(gòu)更穩(wěn)固。
設(shè)備啟動(dòng)：打開(kāi)控制箱電源，等待系統(tǒng)自檢完成，通常需要 2-3 分鐘，自檢通過(guò)后觸控屏將顯示操作界面。
樣品調(diào)整：根據(jù)樣品尺寸選擇合適的樣品臺(tái)，將樣品固定后，通過(guò)手動(dòng)旋鈕粗略調(diào)整樣品位置至視野中心。
物鏡選擇：點(diǎn)擊界面上的物鏡切換按鈕，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)匹配對(duì)應(yīng)的激光參數(shù)，新手可借助智能物鏡選擇助手完成操作。
掃描設(shè)置：選擇掃描范圍與分辨率，大面積樣品可啟用拼接功能，設(shè)置拼接重疊率為 10%-20% 以保證拼接質(zhì)量。
結(jié)果分析：掃描完成后，在分析模塊選擇所需參數(shù)，如表面粗糙度 Ra、Rz 等，系統(tǒng)自動(dòng)生成分析報(bào)告。
在涂層與鍍層行業(yè)，某衛(wèi)浴企業(yè)用 OLS5100 檢測(cè)鍍鉻層厚度分布，通過(guò)臺(tái)階高度測(cè)量實(shí)現(xiàn)非破壞性檢測(cè)，確保產(chǎn)品耐腐蝕性能。軟質(zhì)高分子材料檢測(cè)中，某輪胎企業(yè)借助 5× 物鏡快速定位橡膠磨損區(qū)域，再用 100× 物鏡觀察微觀損傷，分析磨損機(jī)制以?xún)?yōu)化配方。
MEMS 器件檢測(cè)時(shí)，50×Lext 物鏡能準(zhǔn)確捕捉凹槽、臺(tái)階等結(jié)構(gòu)，某微電子企業(yè)用其測(cè)量微傳感器懸臂梁高度，為性能校準(zhǔn)提供數(shù)據(jù)支撐。生物材料研究中，搭配 532nm 綠色激光可觀察膠原蛋白支架降解過(guò)程的結(jié)構(gòu)變化，助力組織工程研究。
奧林巴斯顯微鏡貼合需求的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
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