Linkam 高溫真空熱臺(tái)基礎(chǔ)解析

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

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TS1500V的整體結(jié)構(gòu)以“穩(wěn)定控溫+高真空密封"為核心。其主體采用不銹鋼材質(zhì)加工的真空腔體，內(nèi)壁經(jīng)拋光處理以減少氣體吸附，配合O型硅橡膠密封圈與法蘭連接，確保真空環(huán)境的持久性。

產(chǎn)品型號(hào)：TS1500V

更新時(shí)間：2025-10-23

廠商性質(zhì)：代理商

訪問(wèn)量：68

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冷熱臺(tái)

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產(chǎn)品設(shè)計(jì)與用材

TS1500V的整體結(jié)構(gòu)以“穩(wěn)定控溫+高真空密封"為核心。其主體采用不銹鋼材質(zhì)加工的真空腔體，內(nèi)壁經(jīng)拋光處理以減少氣體吸附，配合O型硅橡膠密封圈與法蘭連接，確保真空環(huán)境的持久性。樣品臺(tái)部分選用氧化鋁陶瓷基底，表面經(jīng)平面研磨，可承載直徑25mm、厚度10mm以內(nèi)的樣品，兼顧導(dǎo)熱性與抗腐蝕能力。加熱元件為多匝鉬合金絲，纏繞于陶瓷絕緣支架上，避免金屬污染，同時(shí)提升高溫下的熱輻射效率。

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關(guān)鍵性能參數(shù)

根據(jù)技術(shù)文檔，TS1500V的標(biāo)準(zhǔn)溫度范圍為室溫至1500℃，升溫速率可在1-20℃/min間調(diào)節(jié)，降溫時(shí)通過(guò)自然冷卻或輔助風(fēng)冷實(shí)現(xiàn)。真空系統(tǒng)配備雙級(jí)機(jī)械泵與分子泵組合，極限真空度可達(dá)1×10?3 Pa（需配合用戶端額外泵組升級(jí)），工作真空度通常維持在1×10?2 Pa至1 Pa范圍內(nèi)。設(shè)備標(biāo)配RS232通訊接口，支持通過(guò)上位機(jī)軟件設(shè)置溫度曲線與實(shí)時(shí)監(jiān)控。

基礎(chǔ)用途與使用場(chǎng)景

該熱臺(tái)主要用于高溫真空條件下的材料行為觀測(cè)。例如，在金屬材料研究中，可模擬退火、固溶處理過(guò)程，觀察晶粒生長(zhǎng)或析出相演變；在地質(zhì)領(lǐng)域，用于模擬地幔礦物在高溫高壓（需搭配外部加壓裝置）下的相變；半導(dǎo)體行業(yè)中，則可進(jìn)行薄膜材料的真空退火，研究界面缺陷修復(fù)機(jī)制。使用時(shí)需注意：樣品需預(yù)處理去除表面油污，避免污染真空腔；使用前建議空載運(yùn)行2小時(shí)，確認(rèn)溫控與真空系統(tǒng)穩(wěn)定性。

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